半导体真空设备零部件氦质谱检漏仪的应用

半导体器件的生产，除需要超净的环境外，有些工序还必须在高真空中进行，比如磁控溅射台、电子束蒸发台、ICP、PECVD等设备。

半导体器件都包含着许多层各种各样的材料，如果在这些不同的材料层之间混入气体分子，就会破坏器件的电学或光学性能。一些半导体设备要用到有毒或有腐蚀性的特殊气体，在低漏率真空条件下，这些气体不易外泄，设备能及时抽走未反应气体和气态反应产物，保证工艺人员的安全。

为什么半导体设备及材料需要做检漏？

1、半导体设备要求高真空，比如磁控溅射台、电子束蒸发台、ICP、PECVD等设备。出现泄漏就会导致高真空达不到或需要大量的时间，耗时耗力；

2、在高真空环境洁净度高、水蒸气很少。一旦出现泄漏周围环境中的灰尘和悬浮颗粒或尘埃就会对晶元造成污染，对半导体的特性改变并破坏其性能，因此在半导体器件生产过程中必须进行氦质谱检漏；

3、一些半导体设备要用到有毒或有腐蚀性的特殊气体，经过氦质谱检漏后，在低漏率真空条件下，这些气体不易外泄，设备能及时抽走未反应气体和气态反应产物，保障工作人员安全和大气环境。

4、芯片封装，一旦出现泄漏，芯片就会失效。

总之，半导体制造生产需要一个极其洁净的环境以保证生产过程中产品不受空气等污染或扰动的影响。为此，一个洁净的真空环境需求就成为必然。

半导体设备检漏方法: 根据待检漏产品特性, 可选择真空法来检漏, 设定好漏率值,用检漏仪直接连接待检漏配件, 检漏仪将检测配件内部的气体抽到一定的真空度, 然后氦气通过喷枪吹扫在部件的外表面. 可直观定位漏点, 诺益NHJ系列移动型氦质谱检漏仪符合人体工学设计, 移动性强, 完全符合标准！

半导体设备氦质谱检漏仪的使用

 半导体设备真空系统出现故障一般分为两类：一是真空泵组及测量系统的故障，另一个是真空系统的泄漏。对于第一类故障，检测真空泵的极限真空度或更换好的真空计就可以确认。对于第二类故障则需要检漏。在对半导体设备检漏时常使用两种方法：静压检漏法和氦质谱检漏法。静压检漏法就是用阀门将真空室与真空泵组隔开，测量其内部压强的变化。氦质谱检漏法要复杂一些。

  氦质谱检漏仪一般需要拿到现场去，检漏仪内有分子泵，因此搬运时要轻拿轻放。常常选择检漏仪高灵敏度方式来检漏，这有利于保护分子泵。检漏仪的抽气能力有限，因此常常需要设备自己抽好真空。真空抽到0.5～10Pa就行。等到漏率显示稳定或由稳定转成减少后再开始检漏。

  在检漏过程中如果需要对门阀、粗抽阀、放气阀等进行操作，则必需先让检漏仪停止检漏并选择检漏口不放气，避免真空室突然进入大量气体而损坏检漏仪。真空抽到后应该关上门阀和粗抽阀，以免分流导致漏率测量值小于实际值。最好停掉设备上的分子泵和机械泵，从而避免它们的干扰；有冷泵的设备要想检漏彻底应该停掉冷泵。

  用真空法检测双密封结构产品漏率时，常有漏率缓慢升高的现象发生, 因此在检漏过程中要注意这一点。另外, 要求氦袋不漏气，一般要求喷出的氦流量少，这样有利于确认漏点位置，但是也有特殊情况，需要在某些氦不易到达的地方喷出较多氦，以避免漏检。检漏时加装的波纹管不能检漏，发现漏点后要进行第二次确认，漏点维修后要再进行检漏确认。

此外，半导体器件由于器件体积小, 且无法抽真空或直接充入氦气, 而氦检漏又离不开氦气作为示踪气体, 所以诺益科技推荐采用”背压法”检漏。

安徽诺益科技生产的氦质谱检漏仪凭借卓越的品质及稳定的性能已广泛应用在众多行业上，先进的生产设备，标准化的生产流程，严格的品质把控等等一系列的因素，才得以让我们的产品在业界有良好的口碑，我们始终坚持以安全保障为前提，对品质严格把控，对产品创新不断追求，诺益产品，值得您的信赖。